光刻是使用曝光將設計的掩模圖案轉移到基板的過程，URE-2000/35型紫外光刻機是專為實驗室研發和小批量生產而設計的高分辨率光刻系統。光刻機提供良好的基板適應性，可夾持的標準尺寸基板最大直徑為150mm。該設備提供多種曝光方式，包括真空、軟接觸、硬接觸等，可實現鍵合對準、納米壓印、微接觸密封等多種功能。

　　

　　1、穩定的納米分辨率；

　　

　　2、大面積全場曝光，無需拼接；

　　

　　3、自由度不受限制，不影響厚膠和表面翹曲；

　　

　　4、雙工作模式；

　　

　　5、全息光刻模式：周期性納米結構；

　　

　　6、掩模對準光刻模式：任何微米結構；

　　

　　7、簡化的曝光工藝可實現一鍵式曝光；

　　

　　8、靈活的定制解決方案。

　　

　　URE-2000/35型紫外光刻機同類產品的優異輸出強度，出色的光束均勻性：3%的可用孔徑，更長的弧光燈使用壽命：高達30000次曝光，即時啟動，無需超凈室，內置凈化系統可以使系統在大氣環境中工作，無需主動冷卻和外部冷卻，綠色技術：高光能轉換率（EVU僅為0.02%），節能省電；傳統UV加工會存在以上問題，光刻操作幾分鐘即可完成，維護簡單。

　　

　　URE-2000/35型紫外光刻機廣泛應用于半導體光刻工藝、光波導、光柵、MEMS、二極管芯片、發光二極管（LED）芯片制造、顯示面板LCD、光電器件、納米壓印和電子封裝。它的使用須知如下：

　　

　　1、不要頻繁開關汞燈；

　　

　　2、水銀燈剛開機需要預熱一段時間；

　　

　　3、檢查氮氣。CDA壓力必須為0.6MPa，N2壓力必須為0.4MPa。